Рассматриваются основы процесса Фентона и возможности его усовершенствования. Процесс Фентона основан на том, что при взаимодействии перекиси водорода и Fe{2+} образуются гидроксил-радикалы, которые способны деструктировать устойчивые соединения. Основная модификация (так называемый фото-фентон) состоит в том, что раствор облучается УФ-радиацией, что увеличивает эффективность процесса. Описаны исследования, в которых солнечная радиация использовалась как источник УФ-излучения и тепловой энергии. В качестве модельной СВ использовался раствор 4-нитрофенола в концентрации 0,7 ммоль, при температуре 75°C полная деструкция происходила через 40 мин.